在前面我们介绍了ic封装的封装形式和ic封装所需原材料,现在我们来正式谈一下ic封装的工艺流程。
ic封装的流程又分为:fol/前段—eol/中段—plating/电镀—eol/后段—final/测试。
首先,fol/前段工艺中的晶圆切割:
1、将从晶圆厂出来的wafer进行背面研磨,来减薄晶圆达到封装需要的厚度(8mils-10mils);
2、磨片时,需要在正面(active area)贴胶带保护电路区域同时研磨背面,研磨之后,去除胶带,测量厚度;
1、将晶圆粘贴在蓝膜上,使得即使被切割开后,不会散落;
2、通过saw blade将整片wafer切割成一个个独立的dice,方便后面的die attach等工序;
3、wafer wash主要清洗saw时候产生的各种粉尘,清洁wafer